Las memorias PoX marcan un cambio de paradigma en la industria tecnológica, con potencial para redefinir el futuro del hardware gracias a su velocidad, eficiencia y estructura basada en grafeno.
Autor: Pier Ciccariello
Las memorias PoX marcan un cambio de paradigma en la industria tecnológica, con potencial para redefinir el futuro del hardware gracias a su velocidad, eficiencia y estructura basada en grafeno.
Ruptura del paradigma actual en memorias digitales
Durante décadas, las tecnologías de memoria avanzaron de manera gradual, mejorando capacidad, velocidad y eficiencia. Sin embargo, la aparición de las memorias PoX (Phase-change Oxide) —desarrolladas en la Universidad Fudan, China— propone un salto radical.
Estas memorias no volátiles, fabricadas con materiales como el grafeno, logran velocidades de escritura cercanas a los 400 picosegundos por bit, lo que equivale a unas 25.000 millones de operaciones por segundo, superando en más de 10.000 veces a las memorias Flash tradicionales. Esta mejora sin precedentes no solo elimina virtualmente los tiempos de carga, sino que permite rediseñar por completo los sistemas actuales, reduciendo o eliminando la necesidad de almacenamiento separado.
El grafeno es clave en este avance: gracias a su altísima movilidad electrónica, resistencia térmica y durabilidad, permite millones de ciclos de escritura sin degradación. En contraste con las memorias DRAM o NAND Flash, que presentan limitaciones ya sea por volatilidad o lentitud, PoX combina persistencia sin consumo de energía con velocidad extrema.
Esto transforma el panorama en sectores como inteligencia artificial, edge computing, dispositivos móviles y servidores de alto rendimiento. Además, en aplicaciones donde el transporte de datos consume más energía que el procesamiento, PoX promete revertir esta relación, favoreciendo arquitecturas más sostenibles y rápidas.

El grafeno Dirac es clave en esta revolución: permite velocidades de conmutación inéditas
Características técnicas y desafíos industriales
El núcleo de las memorias PoX se basa en una estructura funcionalizada de grafeno, que puede integrarse en procesos estándar de fabricación de chips (CMOS). Este material permite miniaturizar celdas hasta los 5 nanómetros, aumentando la densidad de almacenamiento y asegurando una durabilidad superior: más de un billón de ciclos de escritura, un consumo energético 70 % menor que en las memorias PCM, y estabilidad operativa a más de 200 °C.
Todo esto habilita su uso en entornos exigentes como vehículos autónomos, tecnología aeroespacial y centros de datos de nueva generación.
La innovación no solo se limita al material base. El diseño interno fue optimizado para aprovechar fenómenos como la superinyección 2D, en donde los electrones fluyen casi sin restricciones, eliminando cuellos de botella de escritura.
Esto da lugar a tasas de transferencia nunca antes vistas, adecuadas para cargas de trabajo intensivas como bases de datos, aprendizaje automático o simulaciones científicas.
A pesar de su potencial, la fabricación masiva de grafeno de calidad homogénea sigue siendo un obstáculo técnico. Aunque existen métodos avanzados como la deposición química de vapor (CVD), estos presentan altos costos y complejidad.
Además, se requieren procesos de transferencia que conserven la pureza y continuidad del material, algo difícil de lograr a escala de oblea. China lidera actualmente la carrera hacia su industrialización, aunque también Europa y Corea del Sur desarrollan líneas de producción adaptadas.

En los sistemas actuales de IA, mover datos consume más energía que procesarlos. Las memorias PoX podrían cambiar eso para siempre.
Comparativa con otras tecnologías y proyección a futuro
Las PoX compiten con otras memorias emergentes como MRAM, RRAM, FeRAM y PCM, cada una con sus propias ventajas y limitaciones. Mientras algunas ofrecen baja latencia o resistencia a la radiación, muchas aún enfrentan problemas de escalabilidad o integración industrial.
En este contexto, PoX se diferencia al combinar una estructura escalable con compatibilidad CMOS y velocidades que superan por amplio margen a las demás, todo con un consumo inferior y resistencia superior. Esto las posiciona como candidatas clave para sistemas neuromórficos, servidores energéticamente optimizados y soluciones de IA perimetral.
El grafeno, por su parte, se perfila como el sucesor natural del silicio en componentes críticos. Su movilidad electrónica es más de 100 veces mayor, su conductividad térmica alcanza niveles ideales para disipar calor en chips densos, y su resistencia mecánica, transparencia y capacidad de funcionalización lo hacen apto para múltiples aplicaciones, desde sensores hasta sistemas nucleares.
A esto se suma su habilidad para autorrepararse estructuralmente, lo que prolonga su vida útil y lo convierte en un aliado confiable para sistemas que exigen estabilidad prolongada.
Aunque las memorias PoX aún están en fase de laboratorio, su integración a la industria de semiconductores representa una posibilidad concreta de ruptura tecnológica. Si logran superar los desafíos actuales de producción, podrían desplazar a los materiales tradicionales y establecer un nuevo estándar en velocidad, eficiencia y diseño computacional.

El grafeno, la forma más delgada de carbono, presenta una estructura atómica ideal para la electrónica de próxima generación.
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